Isolatore per deposizione strato atomico

Isolatore per deposizione strato atomico

L’ALD (Atomic Layer Deposition) è una tecnica applicata per la deposizione di film sottili. Il principio consiste nell’esporre una superficie in successione a diversi precursori chimici per ottenere strati ultra-sottili. Viene utilizzata principalmente nell’industria dei semiconduttori.

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Numerosi clienti provenienti da diversi settori hanno scelto Jacomex per la progettazione e la produzione delle loro glove box, isolatori e sistemi di purificazione dell'aria.

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Cos’è la deposizione strato atomico (ALD)?

L’ALD o Atomic Layer Deposition, che è una sottoclasse della deposizione chimica da vapore (CVD), si basa sull’uso di un processo chimico in fase gassosa. La maggior parte delle reazioni ALD utilizza due sostanze chimiche: precursori o reagenti. Questi reagiscono uno alla volta, in sequenza, sulla superficie di un materiale. Un film sottile viene depositato lentamente attraverso l’esposizione ripetuta a reagenti separati.

Durante la deposizione strato atomico, la superficie di un film, che viene sviluppato su un substrato, viene esposta ai reagenti. Questi precursori vengono inseriti, senza sovrapposizioni, in una serie di impulsi sequenziali. Le molecole reattive reagiscono con la superficie in ciascuno degli impulsi, in modo che la reazione si completi con il consumo di tutti i siti reattivi sulla superficie.

La natura dell’interazione superficie-precursore determina la quantità massima di materiale depositato dopo l’esposizione a tutti i precursori, il cosiddetto ciclo ALD. È possibile far crescere i materiali in modo uniforme, con alta precisione, su substrati ampi e complessi variando il numero di cicli.

La deposizione strato molecolare, MLD, è la tecnica gemella dell’ALD. Viene applicata quando si utilizzano precursori organici. La combinazione delle due tecniche, ALD/MLD, consente la produzione di film ibridi ad alta purezza adatti a un’ampia gamma di applicazioni.

Scatole a guanti per elettronica organica

Jacomex è un produttore leader di soluzioni di contenimento. Offriamo anche attrezzature per ALD. L’attrezzatura descritta di seguito può essere integrata in una scatola a guanti. Consente la deposizione, strato dopo strato, di Nb 2O5, NiO, SiO2, SnO2, TiO2, MgO, ZnO, Al2O3.

È dotata di un telaio esterno che ne consente l’integrazione nella scatola a guanti con una flangia in acciaio inossidabile. Può essere inserita su un lato, sul retro della scatola a guanti o sul pavimento. È compatibile con la maggior parte dei modelli di scatole a guanti prodotti, a condizione che sia presente un’interfaccia appropriata.

Jacomex, i nostri esperti al tuo servizio

Jacomex è specializzata nella progettazione e produzione di scatole a guanti dotate di depuratori di gas. Queste apparecchiature consentono la produzione, la caratterizzazione e il test di componenti organici, come celle fotovoltaiche (OPV), diodi a emissione di luce, fotorivelatori, semiconduttori organici o biosensori.

Gli ingegneri del nostro dipartimento di ricerca, sviluppo e innovazione concentrano i loro sforzi per offrire soluzioni sempre più innovative. Le nostre attrezzature per la ricerca e l’industria sono interamente sviluppate e prodotte a Lione. Abbiamo venduto e installato le nostre soluzioni in oltre 60 paesi e in settori vari come il nucleare, la ricerca, il farmaceutico, il medico, la produzione additiva, l’energia e l’elettronica organica.

 

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